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薄膜液晶面板生产过程中的有害废气种类及排放

作者:admin  来源:本站  发表时间:2017-06-03 18:05:59  点击:658

    薄膜液晶面板PECVD,MOCVD生产工艺中的有毒有害废气种类:磷化氢(PH3),硅烷(SiH4),六氟化硫(SF6),三氟化氮(NF3),砷烷(AsH3),上述有毒废气是面板薄膜行业中必然会挥发初的有毒气体,特此针对这些气体建议各行业可采用centrotherm clean solutions,简称(CT-CS)德国最专业的废气处理专家。帮您解决此类有害废气。想了解德国centrotherm clean solutions的全部废气处理系统可访问其国内代理商:无锡君晓机电设备有限公司,http//www.liyuntrade.net   联系人:沈经理,联系电话:18262289034


薄膜液晶面板(TFT-LCD)生产工艺

    完整的TFT-LCD的生产工艺流程主要包括陈列工程,彩膜工程,成盒工程三大部分。

    陈列工程中的主要工艺包括:玻璃清洗,薄膜(CVD/溅射)/光刻(涂胶,曝光,显影)烘干,刻蚀(干法刻蚀,湿法刻蚀)剥离,退火,检查等工序。在陈列过程中需要使用的化学品和特殊气体类较多,主要污染源也来自于此。

     彩膜工程为彩色滤光片的生产,包括清洗,黑色矩阵(BM)膜形成,红绿蓝(R.G.B)三色涂布,上保护(OC)膜,镀ITO层,PS 膜,检查等工序。

     成盒工程(制屏工序),主要由配向膜(PI)涂敷,摩擦,垫料散布,液晶注入,真空粘合,紫外固化,切割,贴偏光片,终检等工序。

     模块工段因涉及污染物很少,故在此不做细述。