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PECVD系统

作者:admin  来源:本站  发表时间:2016-06-17 8:21:55  点击:954

平板PECVD主要用于在125mm×125mm或156mm×156mm太阳能硅片上淀积氮化硅减反射钝化膜。 
 平板PECVD产品特点
◆送片方式:悬臂/软着陆(推荐)
◆进口射频电源、压力控制系统、进口干泵等。
◆进口数控钣金机床加工,整机结构合理,媲美进口同类设备。
◆全面满足用户的技术指标要求,突出产品的稳定性,一致性。
◆工控机自动控制系统,工艺过程参数显示、修改、记录等,操作更加直观便捷;
◆设备操作方便,模块化设计,使用及维护方便;
◆方便的温区调整方式(或自动温区调整)更加快捷;
◆高质量的加热炉体,确保恒温区的高稳定性及长寿命。
 平板PECVD主要技术指标:
◆工艺片数:125mm×125mm/256片/批,156mm×156mm/216片/批
◆炉体口径:适应石英管外径φ400mm
◆工作温度范围:150~500℃
◆恒温区长度及精度:1100mm/±1.5℃
◆悬臂式送料装置: 50mm/min~900mm/min连续可调
◆压力控制范围:100~300Pa(闭环连续可调)
◆极限真空度:1Pa
◆反射膜均匀性:片内≤±4%,片间≤±4%,批间≤±5%
◆沉积均匀性:≤±5%
◆内置的Profile TC 实时显示工艺过程恒温区内前、中、后三点的实际温度

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